«Роснано» вложит 40 млн евро в проект по микроэлекронике

РОСНАНО и MA ER Lithography, голландская компания-разработчик систем безмасочной литографии, объявляют о начале инвестиций в производство инновационного литографического оборудования. Общая сумма сделки составляет € 80 млн, доля РОСНАНО — € 40 млн. Такую же сумму вкладывают акционеры MA ER — инвестиционные компании AD Industries, arcom Capital ( arc-IT) и Hoving & artners, технологические компании Technolution и DEMCON, ряд частных инвесторов и семейных инвестиционных фондов, а также Агентство Нидерландов при министерстве экономики, сельского хозяйства и инноваций. Существенная часть инвестиций РОСНАНО будет направлена на создание в России производства ключевого компонента литографических систем MA ER.
Компания MA ER Lithography, основанная в Делфтском техническом университете, разрабатывает литографическое оборудование нового поколения на основе технологии множественных электронных лучей (multiple e-beam), позволяющей обойтись без дорогостоящих литографических масок. Технология MA ER сочетает ранее практически недостижимую разрешающую способность (22 нм и выше) с высокой производительностью, позволяя обрабатывать до 100 кремниевых подложек в час.
Инвестиции позволят компании MA ER выпустить несколько поколений оборудования Matrix. Модель Matrix 1.1, намеченная к выпуску в 2013 году, использует более 1300 электронных лучей и обрабатывает одну подложку в час. Модель Matrix 10.1, использующая 13 260 электронных лучей, обладает производительностью 10 подложек в час. Кластерная система Matrix 10.10, состоящая из десяти установок Matrix 10.1, способна обрабатывать 100 подложек в час, что соответствует требованиям массового производства микросхем. В рамках инвестиционного проекта производственные мощности MA ER будут расширены до 20 литографических машин в год.
В России планируется создать предприятие по выпуску электронной оптики на основе микроэлектромеханических систем (МЭМС) — ключевого компонента оборудования MA ER. Производство требует использования уникальных технологий в области МЭМС. Мощность российского предприятия составит до 20 систем электронной оптики в год, каждая из которых способна управлять 13 260 параллельными электронными лучами. Проект ориентирован на сотрудничество с ведущими российскими профильными исследовательскими институтами.
«Поддержка, которую мы получили в этом раунде финансирования, отражает наши успехи в инновационной технологии электронно-лучевой литографии, которую мы развивали последние десять лет. Сегодня мы готовы представить наш продукт на рынок и гордимся, что РОСНАНО решила поддержать этот масштабный проект», — отметил CEO и сооснователь компании MA ER Берт Ян Камфербеек.
«Проект с MA ER Lithography занимает особое место в портфеле РОСНАНО. Разработки компании находятся в самом начале цепочки создания стоимости в микроэлектронике. Мы уверены, что инвестиции в эту компанию укрепят синергию микроэлектронных проектов РОСНАНО», — подчеркнул управляющий директор РОСНАНО Дмитрий Лисенков.
Для продвижения безмасочной литографии на базе платформы MA ER развернута международная производственно-исследовательская программа IMAGINE, которую координирует ведущий мировой институт по прикладным исследованиям в микроэлектронике CEA-Leti. Основными участниками являются крупные производители микроэлектроники — TSMC (Тайвань) и STMicroelectronics (Франция). В середине 2013 года в чистых комнатах CEA-Leti был установлен промышленный прототип установки MA ER.
В начале 2013 года в рамках программы IMAGINE компания MA ER достигла размерности элементов 22 нм, что соответствует следующим технологическим стандартам в микроэлектронике — 14 нм и 10 нм. В этом году CEA-Leti и MA ER объявили о продлении программы IMAGINE на три года. В течение этого времени в CEA-Leti будет установлено опытное оборудование Matrix, на котором ведущие мировые производители микроэлектроники смогут опробовать безмасочную технологию в реальной производственной обстановке.
Технология MA ER. Создание чипа на кремниевой подложке в безмасочной литографии можно сравнить с формированием картинки на экране электронно-лучевой телевизионной трубки. Картинка формируется когда луч, который быстро обегает телевизионный экран, попадает на светящееся вещество — люминофор. В оборудовании MA ER вместо видимой картинки электронный луч оставляет следы в фоточувствительном слое на поверхности кремниевой подложки.
Видео, иллюстрирующее работу литографического оборудования нового поколения компании MA ER.
Информация с сайта www.rusnano.com.